Calibre WORKbench是一個易于使用的環境，用于創建準確的流程模型和經過測試的、生產就緒的工具設置文件。經批準的模型和設置文件可移交給生產用戶，以推動交鑰匙IC布局RET處理。Calibre WORKbench軟件為硅測量創建測

Calibre Fraction直接以目標掩碼寫入格式導出掩碼生成數據，無需更改工具或創建大型中間文件。Calibre Break的版本可用于Micronic、JEOL、MEBES、東芝和日立格式

當前的低k1光刻工藝增加了納米設計中分辨率增強技術（RET）應用的復雜性。由于掩模規則約束、碎片、建模和計量誤差等原因，這導致了更高的硅故障率。為了減少錯誤，在將設計發送給掩?；蚓A制造商之前，需要一個OPC后驗證步驟來檢測故障

Calibre MDPverify根據原始GDSII定義檢查最終掩碼寫入器數據，以防止使用錯誤數據寫入掩碼。它是Mentor Graphics提供的Calibre MDP工具套件的一部分。它通過獨立于斷裂步驟確認最終掩模數據中是否存在所需的

Calibre OPC pro提供復雜IC布局的全芯片光學和工藝校正，以提高產量和工藝自由度。Calibre OPC pro使用面向批量的流程，對布局進行更改，以補償深亞微米制造過程中固有的光刻變形

散射條（SBs）是放置在刻線圖案邊緣附近的亞分辨率、相位或鉻條狀特征?？股⑸錀l（ASB）只是SBs的倒數，并嵌入到圖案中。SBs和ASB改變孤立線和半孤立線航空圖像的斜率，以便更好地匹配密集嵌套線的航空圖像。SBs有助于在整個音高上保持足夠

Calibre MDPmerge能夠實現從物理驗證和分辨率增強技術（RET）到完成掩模數據準備的連續流程。Calibre Break以VSB11格式生成單獨的圖案文件，優化了最快的掩模寫入和嚴格的CD控制后，Calibre MDPmerge

Calibre MDPview可通過各自的工作組，以GDSII和OASIS格式，以及所有流行的掩模書寫器圖案格式和數據集，快速方便地查看設計數據。它是Mentor Graphics提供的Calibre MDP工具套件的一部分

Calibre MAPI應用程序編程接口提供面向對象的iTCL類和函數，用于快速高效地開發計量應用程序。它通過Calibre WORKbench訪問，方便易用。Calibre MAPI擴展了Calibre MDPview中可用的tcl編程語

CAM350是一款能將能將PCB線路板設計圖轉換為具體制造工藝的軟件， 能夠對包括制造、信號層、鉆孔、阻焊等等分析檢查，為設計人員提高工作效率、節省開發費用和制造出更精良的產品起到了決定性的作用，最重要的是軟件在保證復雜的設計工程數據能快速

Calibre MASKOPT通過對斷裂數據進行高級預處理來降低總放炮次數，從而降低掩模成本和掩模寫入時間。Calibre MASKOPT可以在45 nm及以下的先進技術節點的數據集上實現高達20%的放炮次數減少

Calibre Mask Process Correction（MPC）提供了專門為電子束掩模書寫器開發的優化。新的校正和建模功能提高了高級節點的掩模CD線性度和一致性，尤其是對于較小的特征尺寸（如SRAFs）

Calibre MPCpro是一種針對電子束光刻和掩模蝕刻工藝引入的系統誤差的解決方案，基于Calibre OPCpro技術進行光學工藝校正。Calibre MPCpro可糾正霧化、顯影和蝕刻加載等工藝效應，以及ebeam鄰近效應

Calibre nmOPC是第三代光學鄰近校正（OPC）工具，它擴展了分辨率增強技術（RET）產品的口徑庫，用于亞65納米（nm）工藝技術。Calibre nmOPC工具和配套的OPC驗證工具Calibre OPCverify以業界最高的性

Cadence Sigrity XtracIM工具提供了一個完整的專門針對IC封裝應用模型提取環境。該工具以IBIS或SPICE電路網表格式生成IC封裝的電氣模型。這些簡潔的寄生模型可以是每個pin/net RLC列表、耦合矩陣或Pi/T

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Empyrean XModel?提供了器件測試數據處理和分析、典型特征模型提取、版圖效應模型提取、工藝角模型提取、統計和失配模型提取、模型庫驗證分析等功能。覆蓋模型提取及驗證的全流程，滿足不同類型和各個階段的器件模型提取的要求。 　　

隨著晶圓制造企業的技術改進升級，制造復雜度越來越高，EDA工具對于制造良率提升、工藝平臺建設越來越重要。華大九天針對晶圓制造廠的工藝開發和IP設計需求，提供了相應的晶圓制造EDA工具，包括器件模型提取工具Empyrean XModel?、存

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